自1972年起提供流体密封解决方案

等离子体过程

半导体制造-等离子体工艺

等离子体工艺是对弹性体最不利的工艺之一,特别是那些易受化学物质和/或靠近衬底或晶圆的弹性体。对弹性体最不利的等离子体工艺包括抗氧带和自由基等离子体(如远程NF3.)和使用远程等离子体源(RPS)清洗室。

每一个密封,特别是关键位置的密封,都会在一段时间内恶化/腐烂。这些弹性体必须在高温(高达+250°C)下工作,并继续保持低废气和低颗粒来源,以消除制造过程中的污染。在某些情况下,在高温和等离子气体的异常腐蚀环境下,密封的使用寿命通常在6-8周左右。没有针对所有化学品或与每种工具位置和/或产品类别相关的密封材料得到增强。充分选择我们的建议/推荐产品/材料将带来以下好处:bob社交游戏

  • 低侵蚀率
  • 减少对设备效率和电量的占用
  • 消耗品成本降低(CoC)
  • 成本优化指导有条件的应用
  • 临界、中等/低颗粒放电比在哪里
  • 哪里是临界低微量金属水平

等离子体工艺应用

密封件可用于各种密封装置,包括门密封件、法兰的定心环、排气阀、窗户密封件、阀门密封件、室盖密封件,也可作为硅片运输的缓冲。这些安装都有不同的需求,因此了解并充分理解每个应用程序的准确需求非常重要。了解这些可以帮助最大限度地延长使用寿命,提高弹性体的生产效率。

等离子体过程

等离子体工艺中的材料要求-国内外全氟醚橡胶

根据弹性体位置的不同,性能要求可能有所不同。在等离子体源附近的一个位置,靠近晶圆,在等离子体气体中,存在大量的离子。这使得它成为密封表面的一个侵略性环境。因此,在这些位置,建议使用填充弹性体。未填充的弹性体会迅速变质并引起泄漏。

然而,等离子体流中也发现了自由基等粒子,它们的腐蚀性较小。它们仍然会破坏密封表面,但速度比离子稳定。主要是放置在离等离子体源较远的弹性体,或晶圆下面的腔区,容易受到这些环境的影响。由于表面破坏较小,该区域的弹性体可以不填充或轻度填充。

在排气管中,密封件的清洁度不是一个大问题。这是因为产生的弹性体颗粒随着废气被扫出了系统。当然,随着时间的推移,这些材料会在房间的墙壁上堆积起来。当这种情况发生时,该室将需要一个清洁程序,通常是敌对的等离子气体来清除沉积物。

下表指出了适用于特定应用的兼容和推荐弹性体材料等级。主要等级按照关键工艺/工具放置的方向进行调整。

过程/应用程序 温度范围。 过程媒体 主要材料 兼容的材料
PECVD / HPDCVD " 25°c - 300°c

(77°f - 572°f)

硅氮4N2,在北半球2N2O, NO,有机硅烷/硅氧烷,O2, CF4C2F6C3.F8,科幻小说6, SiF4, NF3. MBMS1108, MBMS1040 MBMS0825, MBMS0729
防蚀条/灰 25°c - 200°c

(77°f - 392°f)

O2, CF4,科幻小说6,瑞士法郎3.,在北半球3.H2H2哦,不,是n2O,形成气体 MBMS1040, MBMS0825 MBMS0245, MBMS0729
介质腐蚀 25°c - 200°c

(77°f - 392°f)

H2阿,2, co, co2不,不2N2O, CS2, cos, cf4, CH4,瑞士法郎3.C2F4C2F6C3.F8C4F6C4F10C5F8C6F6,科幻小说6 MBMS1040, MBMS1108 Mbms0825, mbms0245, mbms0729
导线腐蚀 25°c - 200°c

(77°f - 392°f)

CF4,瑞士法郎3.C2F6C3.F8,科幻小说6, HBr, BCl3., SiCl4CCl,4, Cl2CCl,2F2阿,2co,不,n2O, NF3. MBMS0825, MBMS1040 Mbms0245, mbms0729, mbms1119

如果您需要更多关于我们产品范围的信息bob社交游戏和/或服务,谢谢B0B体育平台下载 团队中的一员

E & oe。